ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ: ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପଦାର୍ଥକୁ ଗରମ କରି ବାଷ୍ପୀଭୂତ କରି ଏହାକୁ କଠିନ ପୃଷ୍ଠରେ ଜମା କରିବା ପାଇଁ ଏହାକୁ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ କୁହାଯାଏ |ଏହି ପଦ୍ଧତି ପ୍ରଥମେ M. Faraday ଦ୍ 185 ାରା 1857 ରେ ପ୍ରସ୍ତାବ ଦିଆଯାଇଥିଲା, ଏବଂ ଏହା ଅନ୍ୟତମ |
ଆଧୁନିକ ସମୟରେ ସାଧାରଣତ used ଆବରଣ କ techni ଶଳ |ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ ଉପକରଣର ଗଠନ ଚିତ୍ର 1 ରେ ଦର୍ଶାଯାଇଛି |
ବାଷ୍ପୀଭୂତ ପଦାର୍ଥ ଯେପରିକି ଧାତୁ, ଯ ounds ଗିକ ଇତ୍ୟାଦି ଏକ କ୍ରୁସିବଲ୍ ରେ ରଖାଯାଏ କିମ୍ବା ବାଷ୍ପୀକରଣ ଉତ୍ସ ଭାବରେ ଏକ ଗରମ ତାରରେ ଟଙ୍ଗାଯାଏ, ଏବଂ ଧାତୁ, ସିରାମିକ୍, ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପରି ଧରାଯିବାକୁ ଥିବା କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ରକୁ ରଖାଯାଏ | କ୍ରୁଶବିଦ୍ଧସିଷ୍ଟମକୁ ଏକ ଉଚ୍ଚ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ କରାଯିବା ପରେ, ବିଷୟବସ୍ତୁକୁ ବାଷ୍ପୀଭୂତ କରିବା ପାଇଁ କ୍ରୁସିବଲ୍ ଗରମ ହୋଇଯାଏ |ବାଷ୍ପୀଭୂତ ପଦାର୍ଥର ପରମାଣୁ ବା ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ ଘନୀଭୂତ ଭାବରେ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଜମା ହୋଇଥାଏ |ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଘନତା ଶହ ଶହ ଆଙ୍ଗଷ୍ଟ୍ରୋମରୁ ଅନେକ ମାଇକ୍ରନ୍ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ହୋଇପାରେ |ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଘନତା ବାଷ୍ପୀକରଣ ଉତ୍ସ ଏବଂ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଉତ୍ସର ସମୟ (କିମ୍ବା ଲୋଡିଂ ପରିମାଣ) ଦ୍ determined ାରା ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରାଯାଏ ଏବଂ ଉତ୍ସ ଏବଂ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ମଧ୍ୟରେ ଥିବା ଦୂରତା ସହିତ ଜଡିତ |ବୃହତ-କ୍ଷେତ୍ର ଆବରଣ ପାଇଁ, ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଘନତାର ସମାନତା ନିଶ୍ଚିତ କରିବାକୁ ଏକ ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ କିମ୍ବା ଏକାଧିକ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଉତ୍ସ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଏ |ବାଷ୍ପୀକରଣ ଉତ୍ସରୁ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଦୂରତା ଅବଶିଷ୍ଟ ଗ୍ୟାସରେ ବାଷ୍ପ ଅଣୁଗୁଡ଼ିକର ହାରାହାରି ମୁକ୍ତ ପଥଠାରୁ କମ୍ ହେବା ଉଚିତ୍, ଅବଶିଷ୍ଟ ଗ୍ୟାସ୍ ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ ସହିତ ବାଷ୍ପ ଅଣୁଗୁଡ଼ିକର ଧକ୍କା ରାସାୟନିକ ପ୍ରଭାବ ସୃଷ୍ଟି ନକରିବା ପାଇଁ |ବାଷ୍ପ ଅଣୁଗୁଡ଼ିକର ହାରାହାରି ଗତିଜ ଶକ୍ତି ପ୍ରାୟ 0.1। To ରୁ 0.2। Elect ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଭୋଲ୍ଟ |
ତିନି ପ୍ରକାରର ବାଷ୍ପୀକରଣ ଉତ୍ସ ଅଛି |
Res ପ୍ରତିରୋଧ ଗରମ ଉତ୍ସ: ଡଙ୍ଗା ଫଏଲ୍ କିମ୍ବା ଚିଲାଣ୍ଟ ତିଆରି କରିବା ପାଇଁ ଟୁଙ୍ଗଷ୍ଟେନ୍ ଏବଂ ଟାଣ୍ଟାଲମ୍ ଭଳି ଚିତ୍ତାକର୍ଷକ ଧାତୁ ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତୁ ଏବଂ ଏହା ଉପରେ ବା ବାଷ୍ପୀଭୂତ ପଦାର୍ଥକୁ ଗରମ କରିବା ପାଇଁ ବ electric ଦୁତିକ କରେଣ୍ଟ ପ୍ରୟୋଗ କରନ୍ତୁ (ଚିତ୍ର 1 [ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣର ଯନ୍ତ୍ରର ସ୍କିମେଟିକ୍ ଚିତ୍ର] ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ଆବରଣ) ପ୍ରତିରୋଧ ଗରମ | ଉତ୍ସ ମୁଖ୍ୟତ C Cd, Pb, Ag, Al, Cu, Cr, Au, Ni ପରି ସାମଗ୍ରୀକୁ ବାଷ୍ପୀଭୂତ କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |
ଉଚ୍ଚ-ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ଇନଡକ୍ସନ୍ ଗରମ ଉତ୍ସ: ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଏବଂ ବାଷ୍ପୀକରଣ ପଦାର୍ଥକୁ ଗରମ କରିବା ପାଇଁ ଉଚ୍ଚ-ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ଇନଡକ୍ସନ୍ କରେଣ୍ଟ ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତୁ |
ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ବିମ୍ ଗରମ ଉତ୍ସ: ପ୍ରଯୁଜ୍ୟ ଅଧିକ ବାଷ୍ପୀକରଣ ତାପମାତ୍ରା ଥିବା ସାମଗ୍ରୀ ପାଇଁ (2000 [618-1] ରୁ କମ୍ ନୁହେଁ), ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ବିମ୍ ସହିତ ସାମଗ୍ରୀକୁ ବିସ୍ଫୋରଣ କରି ବାଷ୍ପୀଭୂତ ହୁଏ |
ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଭାକ୍ୟୁମ୍ ଆବରଣ ପଦ୍ଧତି ତୁଳନାରେ, ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣର ଅଧିକ ଜମା ହାର ରହିଛି, ଏବଂ ପ୍ରାଥମିକ ଏବଂ ଅଣ-ଥର୍ମାଲି କ୍ଷୟ ହୋଇନଥିବା ଯ ound ଗିକ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସହିତ ଆବୃତ ହୋଇପାରିବ |
ଏକ ଉଚ୍ଚ-ଶୁଦ୍ଧ ଏକକ ସ୍ଫଟିକ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଜମା କରିବାକୁ, ମଲିକୁଲାର ବିମ୍ ଏପିଟାକ୍ସି ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ |ଡୋପେଡ୍ GaAlA ଏକକ ସ୍ଫଟିକ୍ ସ୍ତର ବ growing ିବା ପାଇଁ ମଲିକୁଲାର୍ ବିମ୍ ଏପିଟାକ୍ସି ଉପକରଣ ଚିତ୍ର 2 ରେ ଦର୍ଶାଯାଇଛି [ମଲିକୁଲାର ବିମ୍ ଏପିଟାକ୍ସି ଡିଭାଇସ୍ ଭାକ୍ୟୁମ୍ ଆବରଣର ସ୍କିଜେଟିକ୍ ଚିତ୍ର] |ଜେଟ୍ ଫର୍ଣ୍ଣେସ୍ ଏକ ମଲିକୁଲାର୍ ବିମ୍ ଉତ୍ସ ସହିତ ସଜ୍ଜିତ |ଯେତେବେଳେ ଏହା ଅଲ୍ଟ୍ରା-ହାଇ ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ଅଧୀନରେ ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ତାପମାତ୍ରାରେ ଗରମ ହୁଏ, ଚୁଲିରେ ଥିବା ଉପାଦାନଗୁଡିକ ଏକ ବିମ୍ ପରି ମଲିକୁଲାର୍ ଷ୍ଟ୍ରିମ୍ରେ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍କୁ ନିର୍ଗତ ହୁଏ |ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ତାପମାତ୍ରାରେ ଗରମ ହୁଏ, ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉପରେ ଜମା ହୋଇଥିବା ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ ହୋଇପାରେ ଏବଂ ସ୍ଫଟିକଗୁଡିକ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସ୍ଫଟିକ୍ ଲାଟାଇସ୍ କ୍ରମରେ ବ are ିଥାଏ |ମଲିକୁଲାର ବିମ୍ ଏପିଟାକ୍ସି ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ |
ଆବଶ୍ୟକ ଷ୍ଟୋଇଚିଓମେଟ୍ରିକ୍ ଅନୁପାତ ସହିତ ଏକ ଉଚ୍ଚ-ଶୁଦ୍ଧତା ଯ ound ଗିକ ଏକକ ସ୍ଫଟିକ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରାପ୍ତ କରନ୍ତୁ |ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରଟି ଧିରେ ଧିରେ ବ ows ିଥାଏ ଗତି 1 ଏକକ ସ୍ତର / ସେକେଣ୍ଡରେ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରାଯାଇପାରିବ |ବାଫଲକୁ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରି, ଆବଶ୍ୟକ ରଚନା ଏବଂ ଗଠନ ସହିତ ଏକକ ସ୍ଫଟିକ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସଠିକ୍ ଭାବରେ ତିଆରି ହୋଇପାରିବ |ବିଭିନ୍ନ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ଡିଭାଇସ୍ ଏବଂ ବିଭିନ୍ନ ସୁପର୍ଲାଟାଇସ୍ ଷ୍ଟ୍ରକଚର ଫିଲ୍ମ ତିଆରି କରିବା ପାଇଁ ମଲିକୁଲାର ବିମ୍ ଏପିଟାକ୍ସି ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |
ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଜୁଲାଇ -31-2021 |